|
|
|
назад
IBM изготавливает чипы в ванной.
IBM Research предложила способ при помощи существующего оборудования наносить на кремниевые пластины линии с шагом 29,9 нм. Эта технология может снизить стоимость производства процессоров.
Достижение основано на усовершенствованной, экспериментальной версии иммерсионной литографии. В случае использования этого метода кремниевые пластины погружаются в дистиллированную воду. Лазерный луч, проходящий сквозь сложную маску, наносит на пластину микроскопический рисунок, который затем проявляется химическим способом. Вода преломляет свет лучше воздуха, что позволяет достигать более высокого разрешения и меньших размеров. Коммерческое применение иммерсионной литографии должно начаться в относительно близком будущем.
В системе IBM луч лазера расщепляется на два, после чего инструмент, называемый Nemo, соединяет оба луча, создавая интерференционную картину, что позволяет точнее прочерчивать линии, чем при использовании обычной иммерсионной литографии. Кроме того, вода в системе заменена специальной жидкостью, разработанной компанией JSR Micro, и применяются особая призма и специальная система фоторезиста. «Мы можем достигать размеров менее 30 нм», — заверил менеджер по литографическим материалам лаборатории Almaden Research Center IBM Research Роберт Аллен.
Если система Nemo когда-нибудь станет коммерческой, данный процесс может вдохнуть новую жизнь в 193-нм системы литографии, установленные сегодня. Основанные на этих стандартах машины (они могут стоить по $15 млн и доставляются на специальных гусеничных трейлерах) эксплуатируются уже много лет. Они называются так потому, что используют лазер с длиной волны 193 нм. Заменить эти системы машинами на базе новых технологий будет нелегко. Несколько лет назад IBM была одним из главных сторонников рентгеновской литографии. А Intel — при участии Advanced Micro Devices и, в меньшей степени, IBM — пропагандировала вакуумно-ультрафиолетовую литографию (Extreme Ultra Violet, EUV).
Длина волны EUV составляет всего несколько диаметров атома. Однако создание таких систем задержалось на годы. Сторонники EUV ожидали появления оборудования для изготовления чипов с 65-нм проводниками еще в 1997 году, но такие чипы начали изготавливаться только теперь. Технология EUV по-прежнему остается в лабораториях. Хотя Intel может воспользоваться ею для изготовления 32-нм чипов, которые должны появиться где-то в 2009-2010 годах, ученые считают маловероятным начало применения EUV до следующего поколения чипов с технологической нормой 22 нм.
Nemo вселяет в IBM уверенность, что иммерсионная литография со 193-нм системами может применяться для изготовления 32-нм чипов. Однако для достижения 22 нм потребуется лучшая жидкость, фоторезист из других материалов и линзы из вещества, которое только предстоит найти, сказал господин Аллен.
Источник: ZDNet
<< Архив новостей
|
